Electronic Devices · Digital lecture note
MOSFET: channel, i–v characteristic, operating regions (pp. 41–46)
Elektronik Elemanlar – MOSFET: kanal, i–v karakteristiği, çalışma bölgeleri (s. 41–46)
- Course
- Electronic Devices (ELM231)
- Semester
- Semester 3 · Fall 2022–23
- Format
- PDF · 8 pages · 1.4 MB · handwriting-style LaTeX
- Language
- Turkish
- Original note
- Elektronik-elemanlar-notlarim.pdf
Open the PDF (1.4 MB)LaTeX source (.tex)Original handwritten note

What is in this note?
Section headings of the note (in Turkish):
- Applying some v_DS
- Table 5.1 (266)Table 5.1 (266)
Text of the note
Show as plain text (Turkish; formulas and drawings are not included)
C_ox = Oxide capacitance of the device
Applying some v_DS
Deep triode Region
Not (sağ üstte, ok ile (1+λ v_DS) terimine işaret ediyor): ``Channel length modulation (kanal boyu modülasyonu)''Satırların sonu 43. sayfa fotoğrafında kesilmiş; devamı 44. sayfa fotoğrafının sol kenarında kısmen görülüyor.
b) needed to operate the transistor in the sat. region → I_D = 100 μA
c) (b) deki transistör için V_OV ve V_GS gerilimlerini hesaplayınız
c) Transistor in deep triode region
pmos + nmos → cmos → mos
V_GS < V_TH → no channel, transistor in cutoff
V_GS = V_TH + V_OV – a channel is induced → triode or saturation